PVD镀膜设备是一种物理沉积现象。即在真空状态下注入氩气，氩气桩基靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。
PVD镀膜设备常见的有多弧离子镀膜设备，直流磁控溅射镀膜设备，中频磁控溅射镀膜设备等.
该类型设备是一种高效、无污染的离子镀膜设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。
PVD镀膜机是一种高效、无污染的离子镀膜设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。
设备型号 | DK-1000 | DK-1150 | DK-1200 | DK-1600 |
真空室尺寸 | 1000×1200 | 1200×1400 | 1400×1600 | 1600×1800 | 1600×2200 |
制膜种类 | 金色氮化钛、黑色碳化钛、七彩氧化钛、耐磨膜、超硬膜、金刚石膜、金属装饰膜等 |
电源类型 | 直流电源、中频电源、电弧电源、灯丝电源、活化电源、脉冲偏压电源 |
靶类型 | 多弧靶，选配中频孪生柱靶或平面靶 |
真空室结构 | 立式前开门结构（双层水套式或水槽式冷却）、后置抽气系统 |
真空系统 | 机械泵＋罗茨泵＋扩散泵/分子泵＋维持泵 |
加热系统 | 常温至350度可调可控（PID控温），不绣钢加热管加热 |
充气系统 | 质量流量控制仪（1-4路） |
极限真空 | 6×10-4pa（空载、净室） |
抽气时间 | 空载大气抽至5×10-3pa小于13分钟 |
保压率 | 1h≤0.6pa |
工件旋转方式 | 上旋转或下旋转＋公自转变频无级可控可调，0-20转/分 |
控制方式 | 手动＋半自动/触摸屏＋PLC |
备注 | 真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做 |
