该设备是渐变膜专用镀膜设备,该设备是用磁控溅射的原理在产品上面沉积一层渐变色的膜系,一改传统的光学镀膜的方式,具有膜层牢固,膜系稳定,大大提高生产效率等优点。
目前该设备主要应用于手机外壳,平板玻璃,柔性材料等领域。
技术参数
真空室尺寸
1200×1500mm
1400×1600mm
1600×1800mm
1800×2200mm
2000×1950mm
制膜种类
半透明膜、金、银、红、蓝、绿、灰、黑、七彩等多种颜色的渐变膜系
电源类型
磁控溅射电源、离子源电源
真空室结构
立式双开门、立式单开门、抽气系统
真空系统
机械泵+罗茨泵+扩散泵/分子泵+维持泵(或选配:深冷系统)
极限真空
8×10-4 pa(空载、净室)
抽气时间
空载大气抽至5×10-2pa小于10分钟
工件旋转方式
6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速
控制方式
手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC
备注
真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做